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シリサイド系半導体の科学と技術 資源・環境時代の新しい半導体と関連物質
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  • カテゴリ:研究者
  • 発売日:2014/10/02
  • 出版社: 裳華房
  • サイズ:22cm/324p
  • 利用対象:研究者
  • ISBN:978-4-7853-2920-4
  • 国内送料無料
専門書

紙の本

シリサイド系半導体の科学と技術 資源・環境時代の新しい半導体と関連物質

著者 前田 佳均 (編著)

シリサイド系半導体の基礎、結晶成長と素材技術、薄膜形成技術、構造解析、鉄シリサイドの物性、そして発光素子、太陽電池、フォトニック結晶、スピントロニクスへの応用研究などにつ...

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シリサイド系半導体の科学と技術 資源・環境時代の新しい半導体と関連物質

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商品説明

シリサイド系半導体の基礎、結晶成長と素材技術、薄膜形成技術、構造解析、鉄シリサイドの物性、そして発光素子、太陽電池、フォトニック結晶、スピントロニクスへの応用研究などについて解説する。【「TRC MARC」の商品解説】

 (社)応用物理学会の「シリサイド系半導体と関連物質研究会」によって企画された待望の書。
 環境負荷が少なく、かつ持続可能なグリーンテクノロジーである“シリサイド系半導体”の研究・開発において、世界をリードする著者たちが、その基礎物性と応用技術の現状を余すところなく解説した。読者の方々が、(シリコン)光エレクトロニクス、スピントロニクス、グリーンテクノロジー、フォトニクス分野のさらなる進展へのブレークスルーに活用されんことを期待する。【商品解説】

目次

  • 第1章 シリサイド系半導体の基礎
    • 1.1 シリサイド系半導体の電子構造と物性
    • 1.2 シリサイド系半導体
  • 第2章 結晶成長技術
    • 2.1 溶液からの結晶成長
    • 2.2 気相からの結晶成長
    • 2.3 高純度素材の開発
  • 第3章 薄膜形成技術
    • 3.1 反応性エピタキシャル成長
    • 3.2 分子線エピタキシャル成長

著者紹介

前田 佳均

略歴
九州工業大学教授

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