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- カテゴリ:研究者
- 発行年月:1991.6
- 出版社: 工業調査会
- サイズ:19cm/182p
- 利用対象:研究者
- ISBN:4-7693-6080-0
紙の本
ここまできたイオン注入技術 超LSIプロセスのリード役 (ケイブックス)
超LSIを支えるプロセス加工技術の中でもイオン注入技術は半導体プロセスに大きな革命をもたらしてきた。イオン注入の基礎とデバイス応用、さらに装置の内容について解説する。【「...
ここまできたイオン注入技術 超LSIプロセスのリード役 (ケイブックス)
税込
1,923
円
17pt
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商品説明
超LSIを支えるプロセス加工技術の中でもイオン注入技術は半導体プロセスに大きな革命をもたらしてきた。イオン注入の基礎とデバイス応用、さらに装置の内容について解説する。【「TRC MARC」の商品解説】
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