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目次

  • 第1章 導入
  • 第2章 真空と気体分子運動論
    • 2.1 はじめに
    • 2.2 真空と状態方程式
    • 2.3 気体の圧力と内部エネルギー
    • 2.4 全圧と分圧
    • 2.5 気体分子速度の分布則
    • 2.6 平均自由行程と衝突確率
    • 2.7 真空中での気体の流れ
    • 2.8 真空装置
  • 第3章 プラズマの基礎
    • 3.1 はじめに
    • 3.2 プラズマとは
    • 3.3 電子と気体分子との衝突過程
    • 3.4 物体と接するプラズマの構造
    • 3.5 プラズマ装置とプラズマ内部の現象
  • 第4章 物理蒸着法(PVD)
    • 4.1 はじめに
    • 4.2 真空蒸着法
    • 4.3 スパッタリング法
  • 第5章 薄膜の形成過程
    • 5.1 はじめに
    • 5.2 薄膜の成長とその表面
    • 5.3 核発生
    • 5.4 薄膜組織の発達
  • 第6章 エッチング
    • 6.1 はじめに
    • 6.2 エッチング加工の分類
    • 6.3 ウェットエッチング
    • 6.4 物理的ドライエッチング
    • 6.5 化学的ドライエッチング
    • 6.6 物理的+化学的ドライエッチング
  • 第7章 フォトリソグラフィ
    • 7.1 はじめに
    • 7.2 フォトリソグラフィの概要
    • 7.3 フォトレジスト工程
    • 7.4 フォトマスク
    • 7.5 露光
  • 付録A 基礎定数表と真空の単位
  • 付録B 材料の科学についてのノート
    • B.1 原子の構造と化学結合
    • B.2 結晶形と結晶方位
    • B.3 拡散
    • B.4 平衡
    • B.5 反応速度論
  • 付録C 分布関数とマックスウェル-ボルツマン分布
    • C.1 分布関数の性質
    • C.2 マックスウェル-ボルツマン分布
  • 付録D 対数目盛と対数グラフ
    • D.1 片対数グラフ
    • D.2 両対数グラフ
    • D.3 方眼紙で対数グラフはつくれるか?

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