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目次

薄膜の基本技術 第3版

薄膜の基本技術 第3版

  • 金原 粲(著)
  • 1 真空装置の基本
    • 1.1 真空の必要性
    • 1.2 基本的構成
    • 1.3 真空装置の取り扱いの基本
    • 1.4 真空ポンプの原理
    • 1.5 圧力(真空)測定
    • 1.6 真空排気の基礎
    • 演習問題
  • 2 真空蒸着法
    • 2.1 真空蒸着と基板
    • 2.2 気体に関する基本的な法則と公式
    • 2.3 各種の蒸発法
    • 2.4 蒸着の具体例
    • 演習問題
  • 3 スパッタリング法
    • 3.1 放電とプラズマ
    • 3.2 放電プラズマの基礎
    • 3.3 スパッタリング現象
    • 3.4 スパッタリングを用いた薄膜作製装置
    • 演習問題
  • 4 膜厚測定法
    • 4.1 膜厚とは:その多様性
    • 4.2 膜厚の分類
    • 4.3 各種膜厚測定法概論
    • 4.4 各種膜厚測定法
    • 演習問題
  • 5 関連技術
    • 5.1 はじめに
    • 5.2 ガラスその他の基板洗浄
    • 5.3 電気抵抗測定
    • 5.4 付着測定
    • 5.5 硬さ測定
    • 5.6 内部応力測定
    • 演習問題