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目次

現代表面科学シリーズ 4 表面新物質創製

現代表面科学シリーズ 4 表面新物質創製

  • 日本表面科学会(編集)/ 白石 賢二(担当編集幹事)
  • 第1章 欠陥制御エピタキシャル成長技術による表面物質創製
    • 1.1 Si表面上Ge歪エピタキシャル成長によるナノアイランド形成
    • 1.2 高規則化刃状転位ネットワーク形成による均一歪Si1‐xGex・Ge層の創製
    • 1.3 GaNのエピタキシャル横方向成長と自己組織的転位伝播
    • 引用・参考文献
  • 第2章 走査型プローブ顕微鏡による表面物質創製
    • 2.1 原子操作による表面物質創製
    • 2.2 原子操作による導電性分子デバイス
    • 引用・参考文献
  • 第3章 自己組織化によるナノワイヤ,ナノドット形成
    • 3.1 VLS法によるナノワイヤ成長
    • 3.2 シリコン基板上ナノワイヤのヘテロ構造,3次元構造
    • 3.3 生体物質を用いた金属ナノドット形成
    • 3.4 自己組織化による界面のデザイン:有機膜形成
    • 引用・参考文献
  • 第4章 表面を利用した炭素系ナノ材料の創製
    • 4.1 基板表面上のグラフェンの創製
    • 4.2 表面構造を利用したカーボンナノチューブの配列制御
    • 引用・参考文献