目次
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎
- 表面技術協会（編）
- １．ドライプロセスとプラズマ
- １．１ 表面処理
- １．２ ドライプロセスと真空
- １．３ ＰＶＤ，ＣＶＤとプラズマとのかかわり
- １．４ まとめ
- ２． 真空およびプラズマ
- ２．１ 真空
- ２．２ プラズマ
- ２．３ プラズマ診断
- ３． ドライプロセスによる表面処理と薄膜形成
- ３．１ 真空蒸着
- ３．２ イオンプレーティング
- ３．３ スパッタリング法
- ３．４ ドライエッチング
- ３．５ イオン注入法
- ３．６ ＣＶＤ
- ３．７ プラズマ浸漬イオン注入
- ３．８ プラズマ窒化・浸炭
- ４．分析と評価
- ４．１ 膜厚測定
- ４．２ 表面分析
- ４．３ 密着性評価
- ４．４ 薄膜の内部応力
- ４．５ 薄膜の摩擦・摩耗評価と硬度測定
- ４．６ ぬれ性・はっ水性評価
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