目次
ドライプロセスによる表面処理・薄膜形成の基礎
- 表面技術協会(編)
- 1.ドライプロセスとプラズマ
- 1.1 表面処理
- 1.2 ドライプロセスと真空
- 1.3 PVD,CVDとプラズマとのかかわり
- 1.4 まとめ
- 2. 真空およびプラズマ
- 2.1 真空
- 2.2 プラズマ
- 2.3 プラズマ診断
- 3. ドライプロセスによる表面処理と薄膜形成
- 3.1 真空蒸着
- 3.2 イオンプレーティング
- 3.3 スパッタリング法
- 3.4 ドライエッチング
- 3.5 イオン注入法
- 3.6 CVD
- 3.7 プラズマ浸漬イオン注入
- 3.8 プラズマ窒化・浸炭
- 4.分析と評価
- 4.1 膜厚測定
- 4.2 表面分析
- 4.3 密着性評価
- 4.4 薄膜の内部応力
- 4.5 薄膜の摩擦・摩耗評価と硬度測定
- 4.6 ぬれ性・はっ水性評価
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