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目次

酸化物薄膜・接合・超格子 界面物性と電子デバイス応用

酸化物薄膜・接合・超格子 界面物性と電子デバイス応用 (物質・材料テキストシリーズ)

  • 澤 彰仁(著)/ 藤原 毅夫(監修)/ 藤森 淳(監修)/ 勝藤 拓郎(監修)
  • 第1章 薄膜作製・評価・微細加工技術
    • 1.1 薄膜作製法
    • 1.2 薄膜評価技術
    • 1.3 微細加工技術
  • 第2章 酸化物薄膜成長
    • 2.1 酸化と薄膜作製条件
    • 2.2 エピタキシャル薄膜
    • 2.3 エピタキシャル歪と薄膜物性
  • 第3章 酸化物ダイオード
    • 3.1 ショットキー接合
    • 3.2 p‐n接合
    • 3.3 酸化物ショットキー接合とp‐n接合
  • 第4章 酸化物トンネル接合
    • 4.1 トンネル効果と接合の伝導特性
    • 4.2 磁気トンネル接合
    • 4.3 超伝導トンネル接合
  • 第5章 酸化物超格子と2次元電子系
    • 5.1 超格子作製法・評価法
    • 5.2 超格子の電子状態と伝導現象
    • 5.3 酸化物界面の2次元電子系
    • 5.4 酸化物超格子
  • 第6章 酸化物電界効果トランジスタ
    • 6.1 電界効果トランジスタ
    • 6.2 High‐kゲート絶縁膜
    • 6.3 酸化物半導体電界効果トランジスタ
    • 6.4 強相関酸化物電界効果トランジスタ
  • 第7章 酸化物薄膜の不揮発性メモリ応用
    • 7.1 強誘電体メモリ
    • 7.2 抵抗変化不揮発性メモリ

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