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収録作品一覧

作品 著者 ページ
材料技術,製膜技術及びプロセス適合化技術 南内嗣 著 3−10
インジウム化合物の毒性とITO取り扱い上の注意 田中昭代 著 13−21
In2O3系とZnO系の比較的検討 矢作政隆 著 22−33
ITOの基本特性 中澤弘実 著 34−46
有機EL用透明導電膜 浮島禎之 著 47−56
スパッタ法を用いたLCD用ITO膜の作製技術 清田淳也 著 57−64
PDP用ITO薄膜 小川倉一 著 65−72
アモルファスIn2O3−ZnO系薄膜 宇都野太 著 73−83
酸化インジウムに対するスズおよび亜鉛以外の不純物添加 澤田豊 著 84−92
ITOナノインクの新合成法と新薄膜化技術 村松淳司 著 95−107
ITO透明導電膜形成用インクの開発とその特性 大沢正人 ほか著 108−117
In2O3−SnO2系透明導電膜における電気光学特性のSnO2量依存性 内海健太郎 著 118−131
Zn‐In‐Sn‐O系 南内嗣 著 132−140
Si系薄膜太陽電池用の透明導電膜 尾山卓司 著 143−150
CIS系薄膜太陽電池用の透明導電膜 櫛屋勝巳 著 151−164
マグネトロンスパッタ製膜と不純物共添加 南内嗣 著 165−180
アークプラズマ蒸着製膜とZnO薄膜性能 山本哲也 著 181−195
有機系透明導電膜 藤田貴史 著 199−210
TiO2系透明導電体 一杉太郎 著 211−221
近赤外線透過高移動度透明導電膜 鯉田崇 著 222−233
有機EL用透明電極 内田孝幸 著 234−249
有機EL用ITO膜−平坦化ITOの成膜技術 岩岡啓明 著 250−261
PLD法による高性能透明電膜 鈴木晶雄 著 262−275
ZnO透明導電膜の新機能 仁木栄 ほか著 276−283
ZnO系透明導電膜のLEDへの応用 中原健 著 284−291
反応性スパッタによる高速成膜 重里有三 著 292−304