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目次

  • 透明導電膜・材料編
    • 第1章 透明導電膜のインパクト
    • 第2章 ZnO系透明導電膜
    • 第3章 In2O3-ZnO系透明導電膜
    • 第4章 Ga添加ZnO(GZO)膜
    • 第5章 銀添加ITO膜
    • 第6章 p型酸化物透明導電膜
    • 第7章 In4Sn3O12透明導電膜
    • 第8章 InGaZnO4透明導電体
    • 第9章 TiN薄膜
    • 第10章 透明導電材料
    • 第11章 ITOインク
    • 第12章 長繊維状酸化錫
  • 製造・加工編
    • 第13章 スパッタリングターゲットの製造
    • 第14章 スパッタ法
    • 第15章 スプレー熱分解法による透明導電膜の作製
    • 第16章 塗布法による透明導電膜の作製
    • 第17章 透明電極基板フィルムのパターン化
    • 第18章 プラスチック基板上への透明導電膜の作製
  • 標準化・分析・測定編
    • 第19章 透明導電膜の標準化
    • 第20章 透明導電膜の組成分析
    • 第21章 非接触抵抗率測定
  • 応用編
    • 第22章 窓ガラスコーティング
    • 第23章 透明性赤外線カット塗料
    • 第24章 情報機器
    • 第25章 ガスセンサー
    • 第26章 液晶および表示素子
    • 第27章 透明電波吸収体
    • 第28章 抵抗膜方式タッチパネル
    • 第29章 高温発熱ヒーター
    • 第30章 CRT電磁遮蔽反射防止

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