“平尾 孝”の紙の本一覧
“平尾 孝”に関連する紙の本を4件掲載しています。1 ～ 4 件目をご紹介します。
イオン工学ハンドブック ナノテクノロジーへの道を拓く 薄膜合成・加工・イオン注入・表面改質・デバイス応用・マイクロマシン等
- 税込価格：74,800円
- 出版社：イオン工学研究所
- 発行年月：２００４．１０
- 発送可能日：要確認
- 次世代半導体デバイスや液晶ディスプレイ等に必要不可欠なイオン注入、生体材料等に応用される表面改質、イオンビームミキシング、三次元加工技術等を包含し、イオン工学の基礎から具体的な材料やデバイスの適用事例を詳説。【「TRC MARC」の商品解説】
薄膜技術の新潮流 多彩な新規応用をカバー （ケイブックス）
- 税込価格：2,310円
- 出版社：工業調査会
- 発行年月：１９９７．７
- 発送可能日：要確認
- 半導体、ディスプレイ、記録などのキーデバイスにおける、薄膜形成や微細加工技術の進展と技術レベルが、コストや性能を決定する。薄膜、加工技術の基礎から応用まで、最新情報を踏まえて解説する。【「TRC MARC」の商品解説】
イオン工学技術の基礎と応用
- 税込価格：3,652円
- 出版社：工業調査会
- 発行年月：１９９２．４
- 発送可能日：要確認
- なるべくイオン工学技術を使う立場になって、個々の技術の概要・特長・問題と将来動向を見通せるような説明を心がけた。また、イオン工学センターに導入されている最新装置の図面や概要も盛り込み、さらに個々の技術の応用については、デバイスを重視。【「TRC MARC」の商品解説】
ここまできたイオン注入技術 超ＬＳＩプロセスのリード役 （ケイブックス）
- 税込価格：1,923円
- 出版社：工業調査会
- 発行年月：１９９１．６
- 発送可能日：要確認
- 超ＬＳＩを支えるプロセス加工技術の中でもイオン注入技術は半導体プロセスに大きな革命をもたらしてきた。イオン注入の基礎とデバイス応用、さらに装置の内容について解説する。【「TRC MARC」の商品解説】
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