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紙の本
はじめての半導体ドライエッチング技術 改訂版 (現場の即戦力)
著者 野尻一男 (著)
ドライエッチングのメカニズムを極力数式を使わないで説明した入門書。基礎から装置、最先端の応用技術に至るまで系統的に理解できるように解説。ドライエッチング技術の今後の課題と...
はじめての半導体ドライエッチング技術 改訂版 (現場の即戦力)
改訂版 はじめての半導体ドライエッチング技術
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商品説明
ドライエッチングのメカニズムを極力数式を使わないで説明した入門書。基礎から装置、最先端の応用技術に至るまで系統的に理解できるように解説。ドライエッチング技術の今後の課題と展望についても言及する。【「TRC MARC」の商品解説】
「はじめての半導体ドライエッチング技術」 が出版 されてから 8年以上経過しましたが、半導体 の微細化・高集積化の進展は留まるところを知らず、次々新しい技術が出現しています。本書は、アトミックレイヤーエッチング(ALE)など新しい技術の解説や、ドライエッチング技術の今後の課題・展望についてなど、旧版に大幅に加筆訂正を行いました。【商品解説】
目次
- 1 章 半導体集積回路の発展とドライエッチング技術
- 1.1 ドライエッチングの概要
- 1.2 ドライエッチングにおける評価パラメータ
- 1.3 LSI の高集積化にドライエッチング技術が果たす役割
- 2 章 ドライエッチングのメカニズム
- 2.1 プラズマの基礎
- 2.2 イオンシースおよびイオンシース内でのイオンの挙動
- 2.3 エッチングプロセスの組み立て方
著者紹介
野尻一男
- 略歴
- 〈野尻一男〉群馬大学大学院工学研究科修士課程修了。(株)日立製作所、ラムリサーチ(株)を経て独立。ナノテクリサーチ代表。共著に「先端電気化学」など。
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